如何判斷EDI水處理設(shè)備是否被污染？
【無錫水處理設(shè)備http://epinc.cn】EDI是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)（電滲析技術(shù)）相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離生產(chǎn)H+和OH-，這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生，以使離子交換樹脂保持最佳狀態(tài)。
EDI膜堆主要有交替排列的陰陽離子交換膜、濃水室、陰陽離子交換膜、淡水室和正負電極組成。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元，并構(gòu)成淡水室，單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開，形成濃水室。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入了濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水（高純水）。超極限電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行再續(xù)的再生。傳統(tǒng)的離子交換，離子交換樹脂飽和后需要化學間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生，工作時連續(xù)的，不需要酸堿化學再生。
EDI水處理設(shè)備
雖然EDI模塊的進水條件在很大的程度上減少了模塊內(nèi)部阻塞的機會，但是隨著水處理設(shè)備運行的時間的延展，EDI模塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生堵塞，這主要是EDI進水中含有較多的溶質(zhì)，在濃水室中形成脫鹽的沉淀。如果進水中含有大量的該鎂離子（硬度超過0.8ppm）、co2和較高的PH值，將會加快沉淀的速度。遇到這種情況，我們可以通過化學清洗的方法對EDI模塊進行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。
一、通常判斷EDI模塊被污染堵塞可以從以下幾個方面進行評估判定：
1、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。
2、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水進水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始數(shù)據(jù)升高45%。
3、在進水溫度、流量及電導率不變的情況下，產(chǎn)水水質(zhì)（電阻率）明顯下降。
4、在進水溫度、流量不變的情況下，濃水排水量下降35%。
二、模塊堵塞的原因主要有下面的幾種形式：
1、顆粒/膠體污堵
2、無機物污堵
3、有機物污堵
4、微生物污堵
三、EDI清洗注意：
在清洗或消毒之前先選擇合適的化學藥劑并熟悉安全操作規(guī)則，切不可在組件電源沒有切斷的狀態(tài)下進行化學清洗。純水設(shè)備， 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備，無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。
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